پایان نبرد چند ساله سامسونگ و هوآوی بر سر حقوق انحصاری ناشی از ثبت اختراعات

سامسونگ و هوآوی، پس از بیش از سه سال کش‌و‌قوس و نزاع بر سر حقوق انحصاری ثبت اختراعات، به دعوی گسترده خود پایان دادند.

این توافق که بازتابی وسیع در رسانه‌های مختلف جهان داشته است، پایانی بر دعوی حقوقی این دو غول فناوری بوده که در سال ۲۰۱۶ میلادی و با اتهام هوآوی به سامسونگ، مبنی بر نقض پتنت‌های این شرکت در حوزه «LTE»، آغاز شد. از آن زمان، هوآوی شاهد پیروزی‌های مختلف در بازار چین بود و حالا پس از سه سال تلاش و صرف هزینه‌های هنگفت، دو شرکت به این موضوع فیصله دادند.

اگرچه هنوز اخبار دقیقی از شرایط و جزئیات توافق سامسونگ و هوآوی اعلام نشده است، اما به نظر می‌رسد که این دو شرکت، به یک توافق کلی دست یافته‌اند که بر اساس آن، تمامی دعوی‌های حقوقی ثبت شده را متوقف نموده و یک قرارداد اعطای مجوز بهره‌برداری از پتنت، آن‌ها را به یکدیگر نزدیک‌تر می‌نماید.
این توافق، در حالی صورت می‌گیرد که طی سال‌های اخیر، صنعت تلفن‌های همراه هوشمند، با تغییرات عمده‌ای روبرو بوده است. یکی از بزرگ‌ترین تغییرات، ظهور نسل پنجم فناوری‌های ارتباطی یا «۵G» است که در حال تجاری‌سازی نهایی بوده و افت فروش برخی از شرکت‌های سازنده تلفن همراه را به دنبال داشته است. البته هوآوی در این رده قرار نداشته و بنا بر گزارشات انتشار یافته، در سه‌ماهه اول سال جاری میلادی، افزایش ۵۰ درصدی در فروش را نسبت به سال گذشته تجربه نموده است. از سوی دیگر، سامسونگ تقریباً افزایش فروش نداشته و احتمالاً تلاش برای آماده‌سازی زیرساخت‌ها و تغییر از «۴G/LTE» به «۵G» دلیلی منطقی برای ورود دو شرکت به این توافق و حل‌وفصل اختلافات گذشته باشد.
گفتنی است، ماه گذشته میلادی نیز، شرکت‌های اپل و کوآلکام به توافقی مشابه بر سر اختلافات حق امتیاز بهره‌برداری از پتنت دست یافتند؛ اختلافاتی که موجب شکل‌گیری یک سلسله پرونده‌های حقوقی در طیف وسیعی از کشورها، از جمله چین، آمریکا و آلمان شده بود. در این میان، این احتمال وجود دارد که فناوری «۵G» عامل انگیزشی مهمی برای حصول توافق بوده است؛ چرا که بدون توافق با کوآلکام، اپل به منظور انتقال به فناوری مذکور، در معرض ریسک حداقل یک سال عقب ماندن از رقبا قرار می‌گرفت.

منبع: کانون پتنت ایران

دیدگاه خود را ثبت کنید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *